B+W UV filter 40,5mm XS-PRO DIGTAL MRC nano 66-1073877

Podrobný popis

B+W UV filter 40,5mm XS-PRO DIGTAL MRC nano. Tento UV filter blokuje neviditeľné UV zložky svetla z oblohy, ktoré môžu spôsobiť neostrosť snímky a na ktoré mnoho farebných filmov reaguje modrým nádychom. (Tieto filtre by sa mali správne nazývať "UV-blokujúce filtre", pretože existujú aj filtre na technické účely, ktoré naopak UV žiarenie prepúšťajú a blokujú všetky ostatné vlnové dĺžky. Medzi fotografmi sa však už zažil skrátený názov "UV filter".) UV filtre sú ideálne pre fotografovanie vo vysokých nadmorských výškach (v horách). Snímky sú prejasnené a zbavené modrého nádychu. Pretože sklo je bezfarebné, podanie farieb sa nemení (okrem odstránenia nežiaduceho modrého nádychu) a nie je ani potrebné predlžovať expozíciu. UV filter je vďaka tomu veľmi vhodný ako ochrana čelnej šošovky objektívu proti prachu, poletujúcemu piesku, vodnej triešti a podobne a môže zostať trvalo nasadený na objektíve. Odporúča sa pre analógovú farebnú a čiernobielu aj digitálnu fotografiu. Viacvrstvový poťah - MRC (Multi-Resistant Coating) - s technológiou Nano: Poťah nano je vonkajšia ochranná vrstva, ktorou sú štandardne vybavené všetky filtre radu XS-Pro Digital MRC. Vlastnosť "lotosový jav" využívajúci nanotechnológiu zlepšuje vodoodpudivosť, čo ešte viac uľahčuje a urýchľuje čistenie tohto filtra. MRC nano disponuje vylepšenou vonkajšou (ôsmou) vrstvou nad bežným MRC. Poťah MRC značky B+W nie je len neobyčajne účinný viacvrstvový poťah, je tiež tvrdší ako sklo, takže chráni filter pred poškriabaním (napríklad pri čistení filtra), a rovnako odpudzuje vodu a nečistoty, čím je uľahčená údržba filtra. Úchyt: Tento filter používa náš úchyt XS-Pro Digital, ktorý je obzvlášť vhodný pre fotoaparáty DSLR so širokouhlými a zoom objektívmi. Má čelný závit pre príslušenstvo ako sú krytky a clony a pod. Všetky úchyty XS-Pro Digital sú mosadzné a majú matovo čierny povrch, aby sa zabránilo odleskom. ***** UV filtre: Ultrafialové filtre pohlcujú ultrafialové žiarenie a prepúšťajú všetko viditeľné svetlo. Potláčajú svetlo rozptýlené ovzduším - tento rozptyl je tým silnejší, čím je vlnová dĺžka kratšia. Preto sa nám diaľky javia modravé az toho istého dôvodu vzniká aj modré svetlo oblohy. Ultrafialové žiarenie sa rozptyľuje ešte silnejšie, avšak zrakom to nemôžeme posúdiť, pretože toto žiarenie nevidíme. Fotografická vrstva ich však zachytí. Na snímke preto vyjdú diaľky aj obloha nadmerne svetlé a vzdialené detaily málo zreteľné. Iná situácia nastáva v horách, kde je vzduch čistý a obloha dostatočne tmavá, hoci práve tu je ultrafialové žiarenie veľmi silné as rastúcou nadmorskou výškou ho rýchlo pribúda. Objektívy fotografických prístrojov nie sú pre ultrafialové žiarenie dostatočne korigované. Preto sa cez ostrý obraz vykreslený svetlom prekladá neostrý obraz vytvorený ultrafialovým žiarením a tým sa zhorší výsledná ostrosť. Použitím ultrafialového filtra dosiahneme ostré obrazy aj pri vysokohorských nadmorských výškach. Na objektíve môže byť nasadený permanentne a je tak vhodný aj ako jeho mechanická ochrana. Faktor filtra je 1.0. MRC vrstvy: Poslednou generáciou vrstviacich komôr na výrobu filtrov sú vysoko rozvinuté high-tech systémy, ktoré pomocou fyzikálnych a chemických procesov dosahujú vrstiev, ktoré sú podstatne stabilnejšie a tvrdšie ako vrstvy zhotovené v konvenčných vrstviacich komorách. Ak prechádza svetlo filtrom, dochádza na každom rozhraní „svetlo-vzduch“ alebo „vzduch-svetlo“ k reflexii, pri ktorej sa časť svetla odrazí späť mimo objektív. Normálne neupravené sklo spôsobuje stratu svetla pri odraze približne 2 - 4 %. Navyše tiež môže dochádzať k odleskom, ktoré sa prejavia na fotografii. To je spôsobené rozdielnymi indexmi lomu skla a vzduchu. Tieto vady je možné potlačiť jedine nanášaním tenkých vrstiev s rôznymi optickými vlastnosťami na filter (tzv. vrstvený filter). Firma B+W pri MRC (Multi Resistant Coating) filtroch používa pre toto vákuové vrstvenie špeciálne oxidy kovov značne odolné voči poškriabaniu a adhézii. Hrúbka týchto vrstiev je v rozsahu 1/4 vlnovej dĺžky svetla, čo je približne 100 až 200 nanometrov. Jednotlivá vrstva môže redukovať reflexiu viac ako o polovicu. Na redukciu reflexií v celom rozsahu vlnových dĺžok viditeľného spektra je potrebné použiť viac vrstiev. Vysoko rozvinutý systém vrstvenia je aplikovaný vo vákuu na obe strany filtra. Vhodnou kombináciou iba niekoľkých vrstiev môže byť zostatková reflexia v celom rozsahu viditeľného spektra redukovaná až na 0,5 %. Vrstva nano: Revolučná vrstva, ktorá kryje sedem antireflexných vrstiev MRC. Skvelé optické vlastnosti sú touto extrémne tvrdou vrstvou chránené proti poškriabaniu a princíp "lotosového efektu" odpudzuje vlhko a prach.